研磨和拋光是同一種機械運動，原理是一樣的。而對于表面處理的情況而言，拋光的表面光潔度比研磨要更高一些。其實拋光液可以說是研磨的后道工序，可以在同一臺平面拋光機上同時實現(xiàn)研磨和拋光。研磨分為粗磨，精磨，拋光則分為粗拋，精拋。很多時候我們都是三道工序來進行產(chǎn)品表面質(zhì)量的加工：粗磨，精磨，精拋。有了這三道工序，工件表面的平面度，平行度，粗糙度就相當高了。

    針對不同客戶的研磨的不同要求，研磨分為粗磨和精磨2類，有些客戶對研磨的進度并沒有那么高，對于粗糙度要求來說只采用粗磨和精磨兩道工序。具體還是要看進行磨拋的工件本身質(zhì)量來說，以及客戶要求達到的質(zhì)量和要求而定。

    研磨和拋光可以在同一臺平面拋光機上實現(xiàn)，但是所用的配置卻不一樣。研磨需要用研磨盤和研磨液，拋光則是用拋光液和拋光盤，拋光墊，拋光布，拋光輪等。所用在一臺平面拋光機上實現(xiàn)研磨和拋光時需要研磨后更換盤，液體等配置。

    綜上所述在研磨的過程中設(shè)計到的產(chǎn)品或者輔助配件主要有研磨盤、研磨液、拋光布。

    第一、研磨盤研磨拋光機的研磨盤主要是由各種金屬粉末熔化后鑄造而成。這些金屬粉末具備一定的韌性和脆性，有很強的磨削能力，能快速地將各種工件表面打磨拋光。研磨盤的材質(zhì)有多種，常見的有鎢鋼、氧化鋁、氧化鈰、合成鐵或銅等。具體使用什么樣的材質(zhì)可以根據(jù)不同的使用條件或者介質(zhì)來決定。

    金剛石研磨盤：指用于研磨機上的盤式磨具，由盤體和金剛石磨快組成，金剛石焊接或鑲嵌在盤體上，通過磨機的高速旋轉(zhuǎn)對工作面實施平整打磨。

    金剛石研磨盤主要應用：在玉石、壽山石、水晶、瑪瑙、工藝品。近年來已在電子、光電、玻璃制品、電子管、晶體、工藝品、水晶燈飾、精密加工等行業(yè)廣泛使用。產(chǎn)品遠銷中東，東南亞、歐洲以及香港、臺灣等市場。

    第二、研磨液研磨盤不可以單獨使用在研磨介質(zhì)上面，必須要由研磨液或者拋光液配合使用。研磨液一方面可以降低研磨盤加工時的工作溫度，另一方面可以起到潤滑的作用，不會給加工件造成損害。研磨液一般有水劑和油劑兩種類型，最簡單的水劑研磨液可以是簡單的肥皂水，一般可以自制而成，這種研磨液制作成本非常低，但是沒有什么防銹能力，所以不太適合研磨金屬制品。而油劑研磨液是按照適當?shù)谋壤{(diào)制有機溶劑而制成的，這種溶劑最大的缺陷就是制作費用較高。

    研磨液按其作用機理分：機械作用研磨液，化學機械作用研磨液。

    機械作用的研磨液：以金剛石、B4C等為磨料，通過添加分散劑等方式分散到液體介質(zhì)中，從而形成具有磨削作用的液體，稱為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布，利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理，實現(xiàn)工件的研磨、減薄。根據(jù)磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設(shè)備穩(wěn)定性等情況，研磨完成后，工件表面容易留下或大或小的劃痕。所以，機械作用的研磨液一般用于粗磨，后續(xù)還需要精密研磨拋光。

    化學機械作用的研磨液：化學機械作用研磨液利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進行拋光以實現(xiàn)高質(zhì)量的拋光表面，是機械削磨和化學腐蝕的組合技術(shù)，它借助超微粒子的研磨作用和化學腐蝕作用在被研磨的介質(zhì)表面形成光潔平坦表面。所以化學機械作用研磨液又稱為化學機械拋光液(ChemicalMechanicalPolishing,簡稱CMP)。在一定壓力及拋光漿料存在下，被拋光工件相對于拋光墊作相對運動，借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的有機結(jié)合，在被研磨的工件表面形成光潔表面。

    化學機械拋光液，根據(jù)磨料不同的分類：

    二氧化硅研磨液，氧化鈰研磨液，氧化鋁研磨液等。

    金剛石研磨液根據(jù)磨料不同的分類：

    金剛石研磨液是由金剛石磨料與分散液組成，根據(jù)金剛石微粉的類型分為單晶金剛石研磨液、多晶金剛石研磨液和爆轟納米金剛石研磨液三種。

    1、單晶金剛石研磨液

    單晶金剛石研磨液具有良好的切削力，加工成本相對較低。廣泛適用于超硬材料、硬質(zhì)合金等硬質(zhì)材料的研磨拋光。既可以提高磨削速率，又可以將磨削過程中產(chǎn)生的大量熱量迅速排走，從而避免工件表面被燒傷。

    2、多晶金剛石研磨液

    多晶金剛石研磨液利用多晶金剛石良好的韌性，在研磨拋光過程中能夠保持高磨削力的同時不易產(chǎn)生劃傷，為后續(xù)精密拋光加工提供了良好的條件。廣泛用于光學晶體、陶瓷、超硬合金等各種硬質(zhì)材料的研磨和拋光。

    第三、拋光布

    拋光布的使用可以提高拋光盤的效率，同時也可以對拋光盤和拋光介質(zhì)起到很好的保護作用。但是拋光布有一定的使用期限，而且不同規(guī)格的拋光布對工作溫度也有一定的要求。

    研磨拋光機的合理使用離不開上述三種基本輔助材料。它對拋光的質(zhì)量和拋光機的使用壽命有非常重要的影響。

    拋光布輪，主要是用布做成輪式用來拋光，是拋光機器常用的耗材之一，主要應用于打磨的最后工序拋光，也叫鏡面處理，拋光布具有很好的柔軟性和輕微的磨削力。拋光布的拋光主要目的在于去除研磨引入的表面損傷，獲得便于纖維觀測的光亮面。根據(jù)不同試樣材料及拋光工序，不同材質(zhì)的拋光布應用領(lǐng)域也存在差異。

    根據(jù)拋光布背部狀態(tài)，分為三大類：

    1.自粘性襯背拋光布（帶背膠）：帶粘性背面，可黏貼于磨盤、轉(zhuǎn)化盤或磁性盤上，便于更換。

    2.非粘性拋光布（不帶背膠）：非粘性背面，配套壓圈固定使用。

    3.磁性襯背拋光布：又名磁性拋光盤，金屬背面，直接牢固磁吸于工作臺，大大方便拋光布的定位、拆除，存儲。

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